发明申请
- 专利标题： Apparatus And Process For Atomic Layer Deposition
- 专利标题（中）： 用于原子层沉积的装置和工艺
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申请号： US13189708申请日： 2011-07-25
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公开(公告)号： US20120225194A1公开(公告)日： 2012-09-06
- 发明人: Joseph Yudovsky
- 申请人： Joseph Yudovsky
- 申请人地址： US CA Santa Clara
- 专利权人： Applied Materials, Inc.
- 当前专利权人： Applied Materials, Inc.
- 当前专利权人地址： US CA Santa Clara
- 主分类号： B05D5/12
- IPC分类号： B05D5/12 ; C23C16/458
摘要：
Provided are atomic layer deposition apparatus and methods including multiple gas distribution plates including stages for moving substrates between the gas distribution plates.
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