发明申请
- 专利标题： Medium For Etching Oxidic, Transparent, Conductive Layers
- 专利标题（中）： 介质用于蚀刻氧化物，透明导电层
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申请号： US11994608申请日： 2006-06-08
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公开(公告)号： US20080210660A1公开(公告)日： 2008-09-04
- 发明人: Werner Stockum , Armin Kuebelbeck
- 申请人： Werner Stockum , Armin Kuebelbeck
- 申请人地址： DE Darmstadt
- 专利权人： MERCK PATENT GESELLSCHAFT
- 当前专利权人： MERCK PATENT GESELLSCHAFT
- 当前专利权人地址： DE Darmstadt
- 优先权： DE102005031469.4 20050704
- 国际申请： PCT/EP2006/005460 WO 20060608
- 主分类号： H01B13/00
- IPC分类号： H01B13/00 ; B44C1/22 ; B29D11/00 ; C03C14/00 ; C03C25/68 ; C09K13/00 ; C23F1/10 ; C23F1/02
摘要：
The present invention relates to a novel dispensable medium for etching doped tin oxide layers having non-Newtonian flow behaviour for etching surfaces in the production of displays and/or solar cells and to the use thereof. In particular, it relates to corresponding particle-free compositions by means of which fine structures can be etched selectively without damaging or attacking adjacent areas.
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