发明公开
- 专利标题: 用等离子体振子辅助化学反应形成材料膜的方法和系统
- 专利标题(英): Method and system for forming a film of material using plasmon assisted chemical reactions
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申请号: CN200480037309.2申请日: 2004-12-14
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公开(公告)号: CN1894438A公开(公告)日: 2007-01-10
- 发明人: 大卫·A·博伊德 , 马克·布罗恩格斯马 , 莱斯利·格林葛德
- 申请人: 加州理工学院
- 申请人地址: 美国加利福尼亚州
- 专利权人: 加州理工学院
- 当前专利权人: 加州理工学院
- 当前专利权人地址: 美国加利福尼亚州
- 代理机构: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司
- 代理商 肖善强
- 优先权: 60/529,869 2003.12.15 US; 11/006,457 2004.12.06 US
- 国际申请: PCT/US2004/041831 2004.12.14
- 国际公布: WO2005/060634 EN 2005.07.07
- 进入国家日期: 2006-06-14
- 主分类号: C23C16/46
- IPC分类号: C23C16/46 ; C23C16/48 ; C23C16/52 ; C23C18/14
摘要:
用化学气相沉积形成材料膜的方法。所述方法包括提供包含至少一种金属纳米结构图案的衬底,所述金属纳米结构由选定材料制成。所述方法包括确定所述纳米结构的所述选定材料的等离子体振子共振频率,以及用具有预定频率的电磁源在所述等离子体振子共振频率下激发部分所述选定材料以使所述选定材料的热能增加。所述方法包括在包含在所述等离子体振子共振频率下激发的所述选定材料的所述衬底上面施加一种或更多种化学前体,以及在至少所述选定材料的所述部分上面选择性沉积膜。
IPC分类: