• 专利标题: Ⅲ-V化合物半导体晶体
  • 专利标题(英): III-V compound semiconductor crystal
  • 申请号: CN03822501.8
    申请日: 2003-09-19
  • 公开(公告)号: CN1685090A
    公开(公告)日: 2005-10-19
  • 发明人: 栗原香下山谦司
  • 申请人: 三菱化学株式会社
  • 申请人地址: 日本东京都
  • 专利权人: 三菱化学株式会社
  • 当前专利权人: 三菱化学株式会社
  • 当前专利权人地址: 日本东京都
  • 代理机构: 北京市柳沈律师事务所
  • 代理商 范明娥; 巫肖南
  • 优先权: 274905/2002 2002.09.20 JP; 274906/2002 2002.09.20 JP; 274907/2002 2002.09.20 JP; 130264/2003 2003.05.08 JP; 130265/2003 2003.05.08 JP
  • 国际申请: PCT/JP2003/012007 2003.09.19
  • 国际公布: WO2004/027126 JA 2004.04.01
  • 进入国家日期: 2005-03-21
  • 主分类号: C30B29/40
  • IPC分类号: C30B29/40 H01L21/205 H01S5/323
Ⅲ-V化合物半导体晶体
摘要:
本发明公开一种掺杂碳的III-V族化合物的新颖半导体晶体以及其制备方法。特别是III-V族化合物含Al和In作为III族的主要组成元素、并且也含V族组成元素,其特征在于,III-V族化合物半导体晶体中的碳浓度为1×1016cm-3或更高,并且氧浓度为1×1018cm-3或更低,其氧浓度不高于碳浓度;并公开一种其制备方法。利用该III-V化合物半导体晶体,可以提供具有优良的电导性能的半导体设备、和具有优良的高速调制性能的半导体激光器。
0/0