成膜方法、成膜装置以及使用该成膜方法制造的器件
Abstract:
本发明提供一种可削减制造成本的掩膜形成方法。是一种在被处理部件的表面形成规定图形覆膜的方法,该方法由改善图形材料溶液对被处理部件的密接性的工序(S178);向设置在被处理部件表面的掩膜中的用于形成布线图形的凹部填充图形材料溶液的工序(S180);通过处理图形材料溶液,改善应形成的图形覆膜膜质的工序(S186);去除附着在掩膜上的图形材料溶液的工序(S188);使图形材料溶液干燥的工序(S190);和退火处理图形覆膜的工序(S196)而构成。
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