Invention Grant
CN1288720C 成膜方法、成膜装置以及使用该成膜方法制造的器件
失效 - 权利终止
- Patent Title: 成膜方法、成膜装置以及使用该成膜方法制造的器件
- Patent Title (English): Film forming method and device manufactured by the method and manufacturing method of device
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Application No.: CN03120581.XApplication Date: 2003-03-14
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Publication No.: CN1288720CPublication Date: 2006-12-06
- Inventor: 森义明 , 宫川拓也 , 佐藤充 , 足助慎太郎 , 高木宪一
- Applicant: 精工爱普生株式会社
- Applicant Address: 日本东京
- Assignee: 精工爱普生株式会社
- Current Assignee: 精工爱普生株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京
- Agency: 中科专利商标代理有限责任公司
- Agent 李香兰
- Priority: 2002-70393 2002.03.14 JP
- Main IPC: H01L21/027
- IPC: H01L21/027 ; H01L21/31 ; G03F7/00

Abstract:
本发明提供一种可削减制造成本的掩膜形成方法。是一种在被处理部件的表面形成规定图形覆膜的方法,该方法由改善图形材料溶液对被处理部件的密接性的工序(S178);向设置在被处理部件表面的掩膜中的用于形成布线图形的凹部填充图形材料溶液的工序(S180);通过处理图形材料溶液,改善应形成的图形覆膜膜质的工序(S186);去除附着在掩膜上的图形材料溶液的工序(S188);使图形材料溶液干燥的工序(S190);和退火处理图形覆膜的工序(S196)而构成。
Public/Granted literature
- CN1445820A 成膜方法及使用该方法制造的器件、和器件的制造方法 Public/Granted day:2003-10-01
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IPC分类: