本发明涉及高损伤阈值光学薄膜技术领域，特别是涉及一种近红外长波下高激光损伤阈值氧化钽薄膜及其制备方法，包括以下步骤，使用强氧化无机溶剂对衬底材料进行清洗，去离子水洗净后使用有机溶剂清洗，氮气吹干后烘干，得到干净的衬底；在干净的衬底上沉积氧化钽，得到沉积氧化钽的衬底；对沉积氧化钽的衬底进行快速退火，得到镀氧化钽的衬底。本发明采用上述步骤的一种近红外长波下高激光损伤阈值氧化钽薄膜及其制备方法，采用快速退火有效提高了氧化钽薄膜在近红外长波处的激光损伤阈值，相对于未退火的膜层，激光损伤阈值提高了约190%，并大大缩短制备时间。