发明公开
- 专利标题： 掩模台和包括掩模台的极紫外曝光装置
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申请号： CN202311560660.0申请日： 2023-11-22
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公开(公告)号： CN118276413A公开(公告)日： 2024-07-02
- 发明人: 李相焕 , 金度亨 , 朴珍洪 , 申河喆 , 洪成哲
- 申请人： 三星电子株式会社
- 申请人地址： 韩国京畿道
- 专利权人： 三星电子株式会社
- 当前专利权人： 三星电子株式会社
- 当前专利权人地址： 韩国京畿道
- 代理机构： 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 程丹辰
- 优先权： 10-2022-0189739 20221229 KR
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
摘要：
公开了掩模台和包括掩模台的极紫外曝光装置。该掩模台包括：主体；在主体的下表面上的支撑件，支撑件包括可附接的极紫外掩模；基准标记，在主体的下表面上并与支撑件间隔开；以及包括多个测量传感器的传感器区域，所述多个测量传感器配置为测量入射在主体上的极紫外光的一部分的能量，其中传感器区域在主体的下表面上并在极紫外光的扫描方向上与支撑件间隔开，所述多个测量传感器在垂直于扫描方向的方向上彼此间隔开。
IPC分类:
