发明公开
- 专利标题: 提高光刻胶填充性和显影、清洗效果的装置及其使用方法
-
申请号: CN202410535562.X申请日: 2024-04-29
-
公开(公告)号: CN118210206A公开(公告)日: 2024-06-18
- 发明人: 冯春 , 钱睿
- 申请人: 上海华力集成电路制造有限公司
- 申请人地址: 上海市浦东新区康桥东路298号1幢1060室
- 专利权人: 上海华力集成电路制造有限公司
- 当前专利权人: 上海华力集成电路制造有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市浦东新区康桥东路298号1幢1060室
- 代理机构: 上海浦一知识产权代理有限公司
- 代理商 刘昌荣
- 主分类号: G03F7/30
- IPC分类号: G03F7/30 ; G03F7/16 ; G03F7/40
摘要:
本发明提供一种提高光刻胶填充性和显影、清洗效果的装置,包括晶圆承载台,其用于对晶圆光刻过程中的吸附或解吸附;超声波振动装置,其包括超声振子、超声电源和主轴,用于在晶圆上旋涂光刻胶、显影或清洗时,将超声电源产生的超声波频信号通过主轴传输至超声振子,超声振子带动光刻胶、显影液或清洗液形成机械振动;控制器,其用于控制晶圆的吸附或解吸附,以及超声频信号的预设程式,预设程式包括时间和频率的参数设置。本发明能够提高光刻胶的填充性和减少图形负载,尤其对于高深宽比图形效果更佳;使显影液与光酸更加充分反应,尤其是高深宽比区域,提高显影效果;使清洗液与晶圆表面充分接触,使清洗更充分,减少缺陷。
IPC分类: