发明授权
- 专利标题: 一种喷流块、喷流装置及划片机
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申请号: CN202410264293.8申请日: 2024-03-08
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公开(公告)号: CN117855112B公开(公告)日: 2024-05-10
- 发明人: 孙志超 , 陆野 , 高阳
- 申请人: 江苏京创先进电子科技有限公司 , 南京理工大学
- 申请人地址: 江苏省苏州市常熟经济技术开发区海城路2号9幢;
- 专利权人: 江苏京创先进电子科技有限公司,南京理工大学
- 当前专利权人: 江苏京创先进电子科技有限公司,南京理工大学
- 当前专利权人地址: 江苏省苏州市常熟经济技术开发区海城路2号9幢;
- 代理机构: 北京远智汇知识产权代理有限公司
- 代理商 杨帅
- 主分类号: H01L21/67
- IPC分类号: H01L21/67 ; H01L21/78
摘要:
本申请公开了一种喷流块、喷流装置及划片机。所述喷流块包括主体部以及连接于主体部在其长度方向一侧的安装部,主体部具有入口流道、多个出口流道以及用于连通入口流道和多个出口流道的过渡流道,其中,扩散问题较为严重的出口流道为靠近入口流道的最外侧的出口流道,将该出口流道记为第一出口流道,通过在该过渡流道内与该第一出口流道相对的位置处增设挡片,且第一出口流道的中心线位于挡片所在平面内,第一出口流道的入口低于挡片的最低面,从而在不影响流体流入该第一出口流道的入口的情况下,避免在该第一出口流道的入口处形成不稳定的漩涡,保证出口射流的稳定性,减少射流扩散和破碎问题,提高射流的清洗能力。
公开/授权文献
- CN117855112A 一种喷流块、喷流装置及划片机 公开/授权日:2024-04-09
IPC分类: