Invention Publication
- Patent Title: 液滴分析单元及包括该液滴分析单元的基板处理装置
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Application No.: CN202310900439.9Application Date: 2023-07-21
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Publication No.: CN117476499APublication Date: 2024-01-30
- Inventor: 陈元镛 , 李载德 , 张硕元
- Applicant: 细美事有限公司
- Applicant Address: 韩国忠清南道
- Assignee: 细美事有限公司
- Current Assignee: 细美事有限公司
- Current Assignee Address: 韩国忠清南道
- Agency: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司
- Agent 刘旭; 王艳春
- Priority: 10-2022-0093076 2022.07.27 KR
- Main IPC: H01L21/67
- IPC: H01L21/67
Abstract:
本公开提供了一种能够测量和数字化墨滴的弯月面形状、运动和位置的液滴分析单元及包括该液滴分析单元的基板处理装置。基板处理装置包括：工艺处理单元，在基板被处理时支承基板；喷墨头单元，通过利用多个喷嘴向基板上喷出基板处理液来处理基板；门架单元，使喷墨头单元在基板之上移动；以及液滴分析单元，测量多个喷嘴中的每个中的与基板处理液相关联的弯月面，其中，液滴分析单元基于色差来测量和量化关于弯月面的三维(3D)信息。
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IPC分类:
