Invention Publication
CN117355794A 激光系统
审中-实审
- Patent Title: 激光系统
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Application No.: CN202280036823.2Application Date: 2022-03-07
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Publication No.: CN117355794APublication Date: 2024-01-05
- Inventor: H·P·戈德弗里德
- Applicant: ASML荷兰有限公司
- Applicant Address: 荷兰维德霍温
- Assignee: ASML荷兰有限公司
- Current Assignee: ASML荷兰有限公司
- Current Assignee Address: 荷兰维德霍温
- Agency: 北京市金杜律师事务所
- Agent 姚宗妮
- Priority: 63/169,750 2021.04.01 US
- International Application: PCT/EP2022/055762 2022.03.07
- International Announcement: WO2022/207245 EN 2022.10.06
- Date entered country: 2023-11-21
- Main IPC: G03B27/54
- IPC: G03B27/54
Abstract:
本公开涉及激光系统。激光系统包括：可操作以生成激光束的激光器；包括第一光学元件和第二光学元件的光学系统；以及激光束离开激光系统的输出端；激光器、光学系统和输出被布置为使得激光束依次行进到第一光学元件、第二光学元件和输出端；其中第一光学元件具有第一焦距，第二光学元件具有与第一焦距相等的第二焦距，并且第二光学元件与第一光学元件被间隔开第一焦距的两倍的距离。
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