发明授权
- 专利标题: 集成采样电阻的半导体装置及其制造方法
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申请号: CN202310988085.8申请日: 2023-08-08
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公开(公告)号: CN116779574B公开(公告)日: 2024-04-19
- 发明人: 宋贵波 , 黄泽军
- 申请人: 深圳市锐骏半导体股份有限公司
- 申请人地址: 广东省深圳市南山区粤海街道滨海社区海天二路25号深圳湾创业投资大厦8层801A房
- 专利权人: 深圳市锐骏半导体股份有限公司
- 当前专利权人: 深圳市锐骏半导体股份有限公司
- 当前专利权人地址: 广东省深圳市南山区粤海街道滨海社区海天二路25号深圳湾创业投资大厦8层801A房
- 代理机构: 深圳市诺正鑫泽知识产权代理有限公司
- 代理商 陆燕思
- 主分类号: H01L23/49
- IPC分类号: H01L23/49 ; H01L23/64 ; H01L21/60 ; H01L21/66 ; G01R19/00
摘要:
本发明公开了一种集成采样电阻的半导体装置及其制造方法,包括:芯片,所述芯片表面设置有第一焊盘和第二焊盘;多根键合引线,每根所述键合引线的两端均分别连接第一焊盘和第二焊盘,沿着多根键合引线排列的方向,相邻键合引线之间错位排列;其中,将所述多根键合引线作为电流采样时的采样电阻。多根键合引线产生的总电感由自感和互感决定,而自感一般可以通过控制打线机的参数调整。受限于芯片尺寸、电气参数等因素,键合引线的长度、直径可以调整的空间有限。本发明通过降低多根键合引线之间的互感来降低总电感。在键合引线长度、直径无法改变的情况下,可以进一步降低多根键合引线构成的采样电阻的寄生电感。
公开/授权文献
- CN116779574A 集成采样电阻的半导体装置及其制造方法 公开/授权日:2023-09-19
IPC分类: