- 专利标题: 沟槽型绝缘栅场效应管器件及其制造方法、电子元件
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申请号: CN202310948875.3申请日: 2023-07-31
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公开(公告)号: CN116666224B公开(公告)日: 2024-06-07
- 发明人: 任娜 , 盛况 , 林超彪 , 徐弘毅
- 申请人: 浙江大学
- 申请人地址: 浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号
- 专利权人: 浙江大学
- 当前专利权人: 浙江大学
- 当前专利权人地址: 浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号
- 代理机构: 杭州华进联浙知识产权代理有限公司
- 代理商 陈靖康
- 主分类号: H01L21/336
- IPC分类号: H01L21/336 ; H01L21/28 ; H01L29/06 ; H01L29/08 ; H01L29/423 ; H01L29/78
摘要:
本公开涉及沟槽型绝缘栅场效应管器件及其制造方法、电子元件。该方法包括:形成依次堆叠的预制复合衬底、预制沟道层及预制第一源接触区,预制第一源接触区具有第一掺杂类型;形成贯穿预制第一源接触区的第二源接触区;形成图案化的第一掩膜;通过第一掩膜刻蚀形成第一沟槽段,第一沟槽段贯穿预制第一源接触区及预制沟道层,并延伸入预制复合衬底,第一沟槽段与第二源接触区沿第一方向相对并被预制第一源接触区间隔;通过第一掩膜对第一沟槽段的沿第一方向相对两个侧壁面中的第一侧壁面进行第一离子注入工艺,形成第一保护区,第一保护区具有第二掺杂类型;以及去除掩膜。该方法可以较容易地制造可靠性较好的沟槽型绝缘栅场效应管器件。
公开/授权文献
- CN116666224A 沟槽型绝缘栅场效应管器件及其制造方法、电子元件 公开/授权日:2023-08-29
IPC分类: