发明公开
- 专利标题: 一种提升管内壁磁控溅射镀膜结合力的方法
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申请号: CN202211104017.2申请日: 2022-09-09
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公开(公告)号: CN116162889A公开(公告)日: 2023-05-26
- 发明人: 王江 , 付天佐 , 钟轶强 , 陈义武 , 孟树文 , 田振刚 , 李鸿亚 , 周利华 , 唐江科 , 陈江 , 程元芬 , 雷震
- 申请人: 中核四0四有限公司
- 申请人地址: 甘肃省兰州市七里河区甘肃矿区
- 专利权人: 中核四0四有限公司
- 当前专利权人: 中核四0四有限公司
- 当前专利权人地址: 甘肃省兰州市七里河区甘肃矿区
- 代理机构: 上海科盛知识产权代理有限公司
- 代理商 褚明伟
- 主分类号: C23C14/02
- IPC分类号: C23C14/02 ; C23C14/04 ; C23C14/35 ; C23G5/00
摘要:
本发明涉及真空镀膜技术领域,尤其是涉及一种提升管内壁磁控溅射镀膜结合力的方法。本发明首先去除管工件表面锈斑、油渍和灰尘,后处理得到预处理件;然后将预处理件装炉后高真空烘烤去除预处理件表面吸附的气体和残留有机物;最后将高真空烘烤的预处理件经柱靶磁控溅射镀膜后从炉中取出。本发明的一种提升管内壁磁控溅射镀膜结合力的方法通过细化管工件预处理流程,获得了更加洁净的管工件表面,同时在试验前增加管工件高真空烘烤步骤,在预处理的基础上进一步清洁管工件表面,除去了管工件表面吸附的气体及油污,有利于提高薄膜结合力,还提高了镀膜开始前管工件表面的温度,这也有利于溅射的靶材原子与管工件紧密结合。
IPC分类: