发明公开
- 专利标题: 基于晶圆解理装置的晶圆体金属检测方法及晶圆解理装置
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申请号: CN202210930111.7申请日: 2022-08-03
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公开(公告)号: CN115656310A公开(公告)日: 2023-01-31
- 发明人: 邓春星 , 由佰玲 , 周迎朝 , 原宇乐 , 武卫 , 刘建伟 , 刘园 , 孙晨光 , 王彦君 , 祝斌 , 刘姣龙 , 裴坤羽 , 常雪岩 , 杨春雪 , 谢艳 , 袁祥龙 , 张宏杰 , 刘秒 , 吕莹 , 徐荣清
- 申请人: 天津中环领先材料技术有限公司 , 中环领先半导体材料有限公司
- 申请人地址: 天津市滨海新区华苑产业区(环外)海泰东路12号;
- 专利权人: 天津中环领先材料技术有限公司,中环领先半导体材料有限公司
- 当前专利权人: 天津中环领先材料技术有限公司,中环领先半导体材料有限公司
- 当前专利权人地址: 天津市滨海新区华苑产业区(环外)海泰东路12号;
- 代理机构: 天津诺德知识产权代理事务所
- 代理商 栾志超
- 主分类号: G01N27/626
- IPC分类号: G01N27/626 ; G01N1/28 ; G01N1/40
摘要:
本发明提供一种基于晶圆解理装置的晶圆体金属检测方法及晶圆解理装置,包括:通过所述解理装置对所述晶圆进行解理;用雾化的氢氟酸处理所述晶圆的解理面;收集所述解理面上的金属离子;通过ICP‑MS检测出所述晶圆中金属的含量;一种晶圆解理装置,包括:刻刀、机械钳和第一载台,所述第一载台被设置于放置晶圆;所述机械钳被设置于所述晶圆的侧面,用于夹取所述晶圆;所述刻刀被设置于所述晶圆的上方,用于切割所述晶圆。本发明的有益效果是通过自动化解理过程,实现对晶圆的机械化解理,用硅片解理的机械方法,使得硅片的内部表面暴露出来,再结合ICP‑MS,使得硅片中的金属元素的含量能够进行表征,从而更加容易地分析与控制硅片中金属元素的含量。