发明公开
- 专利标题: 外延生长用基板及其制造方法
-
申请号: CN202211175335.8申请日: 2016-10-21
-
公开(公告)号: CN115572928A公开(公告)日: 2023-01-06
- 发明人: 黑川哲平 , 桥本裕介 , 冈山浩直
- 申请人: 东洋钢钣株式会社 , 住友电气工业株式会社
- 申请人地址: 日本东京都;
- 专利权人: 东洋钢钣株式会社,住友电气工业株式会社
- 当前专利权人: 东洋钢钣株式会社,住友电气工业株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都;
- 代理机构: 北京安信方达知识产权代理有限公司
- 代理商 蔡利芳; 郑霞
- 优先权: 2015-209074 20151023 JP
- 主分类号: C22F1/08
- IPC分类号: C22F1/08 ; C30B1/02 ; C30B29/02 ; B32B15/01 ; B32B15/18 ; B32B15/20 ; B32B37/00 ; B32B38/00 ; B32B37/10
摘要:
本申请涉及外延生长用基板及其制造方法。提供一种不会形成异常部a3且具有更高度的双轴结晶取向性的外延生长用基板及其制造方法。该制造方法包括:将金属基材及具有fcc轧制织构的铜层通过表面活性化接合进行层叠的工序;对铜层实施机械研磨的工序;以及进行铜层的取向化热处理的工序,其特征在于,将基于XRD测定的层叠前的铜层及层叠后的铜层的(200)面的比例分别设为I0Cu、I0CLAD,将层叠前的铜层及层叠后的铜层的(220)面的比例分别设为I2Cu、I2CLAD时,I0Cu<20%,I2Cu=70~90%,并且进行层叠以使I0CLAD<20%,I2CLAD=70~90%及I0CLAD-I0Cu<13%。