低回滞电压的逆导型绝缘栅双极型晶体管及其制备工艺
摘要:
一种低回滞电压的逆导型绝缘栅双极型晶体管及其制备工艺,晶体管包括:位于器件底部的集电极,在集电极之上设有集电区,集电区包括交替排布的P+集电区和N+短路区,在集电区上方设有N型场截止层,场截止层之上设有N‑型漂移区,在漂移区上表面设有按一维阵列排布的沟槽,沟槽内设有栅氧化层和多晶硅栅极,栅氧化层位于多晶硅栅极与沟槽内壁之间,在漂移区上方设有P型体区,P型体区位于相邻两个沟槽之间,且与沟槽侧壁接触;在P型体区之上设有N+发射区和P+型接触区,接触区上连接有发射极,发射极两侧设有绝缘介质层,其特征在于,在场截止层与集电区之间设有N‑高阻区。制备工艺特征在于,场截止层由背面氢注形成,背面结构均采用激光退火工艺。
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