发明公开
- 专利标题： 用于减少铜和铜合金电路的光学反射率的方法和触摸屏装置
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申请号： CN202210839862.8申请日： 2015-08-07
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公开(公告)号： CN115261834A公开(公告)日： 2022-11-01
- 发明人: 库帝普·约哈 , 克丽斯汀·罗文斯基 , D·M·嫚斯崎 , 基连·克拉登 , 约尔格·舒尔策 , 赛巴斯汀·莱柏
- 申请人： 德国艾托特克公司
- 申请人地址： 德国柏林
- 专利权人： 德国艾托特克公司
- 当前专利权人： 德国艾托特克公司
- 当前专利权人地址： 德国柏林
- 代理机构： 北京律盟知识产权代理有限责任公司
- 代理商 林斯凯
- 优先权： 14181187.7 20140815 EP
- 主分类号： C23C18/54
- IPC分类号： C23C18/54 ; C23C18/40 ; C23C18/48 ; C23C28/02 ; C25D3/38 ; C25D3/58 ; C25D7/00 ; H05K1/02 ; H05K3/18
摘要：
本发明是关于用于一种用于减少铜和铜合金电路的光学反射率的方法和触摸屏装置，其中钯或钯合金的薄层通过浸镀式电镀沉积到所述铜或铜合金上。借此获得浅灰色或浅灰黑色或黑色的钝色层，且减少所述铜或铜合金电路的光学反射率。根据本发明的方法特别适合于制造图像显示装置、触摸屏装置及相关电子组件。
IPC分类:
