本发明公开了一种数据漂移的跟踪方法，装置、终端设备及计算机可读存储介质，所述数据漂移的跟踪方法包括：根据半导体加工数据样本集和半导体制造过程的模型参数建立跟踪半导体加工数据的漂移的自回归外生模型；根据贝叶斯规则确定所述模型参数的第一后验分布，根据所述第一后验分布和所述自回归外生模型，确定跟踪所述半导体加工数据的漂移的贝叶斯自回归外生模型；针对所述贝叶斯自回归外生模型进行递归更新，通过递归更新后的贝叶斯自回归外生模型，针对半导体制造过程中的半导体加工数据进行漂移的跟踪，相比于传统的方式，本发明能够实现半导体制造过程中跟踪半导体加工数据的漂移，从而提高预测半导体加工数据漂移的准确率。