发明公开
- 专利标题: 一种IC基板多功能化学制程装置及方法
-
申请号: CN202210389949.X申请日: 2022-04-14
-
公开(公告)号: CN114496862A公开(公告)日: 2022-05-13
- 发明人: 马库斯·郎 , 马丁·施莱
- 申请人: 鑫巨(深圳)半导体科技有限公司
- 申请人地址: 广东省深圳市前海深港合作区前湾一路1号A栋201室
- 专利权人: 鑫巨(深圳)半导体科技有限公司
- 当前专利权人: 鑫巨(深圳)半导体科技有限公司
- 当前专利权人地址: 广东省深圳市前海深港合作区前湾一路1号A栋201室
- 主分类号: H01L21/67
- IPC分类号: H01L21/67 ; H01L21/02 ; H01L21/027 ; H01L21/306 ; B01D29/35 ; B08B3/02
摘要:
本发明公开了一种IC基板多功能化学制程装置及方法,该装置包括:单板处理加工室,所述单板处理加工室内盛有用于浸没IC基板的溶液;多功能喷嘴系统,用于IC基板的表面处理;水流喷管,用于在溶液表面形成可带走任何可能存在的微粒和/或碎屑溢流通道;过滤系统,与溢流通道连通,用于过滤溢流通道中的微粒和/或碎屑。本发明将待处理的IC基板置于单板处理加工室的溶液中;利用多功能喷嘴系统对IC基板表面进行处理并去除任何可能存在的微粒和/或碎屑;通过水流喷管形成朝向过滤系统的溢流通道带动被去除的微粒和/或碎屑朝向过滤系统流动,并通过过滤系统对流动到的微粒和/或碎屑进行过滤处理,可以有效提高对于IC基板表面处理上的效率及灵活性。
公开/授权文献
- CN114496862B 一种IC基板多功能化学制程装置及方法 公开/授权日:2022-07-12
IPC分类: