发明公开
CN114127330A 溅镀靶材
审中-实审
- 专利标题： 溅镀靶材
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申请号： CN202080050074.X申请日： 2020-06-26
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公开(公告)号： CN114127330A公开(公告)日： 2022-03-01
- 发明人: 丸子智弘 , 鈴木雄 , 大友将平 , 中村紘暢
- 申请人： 株式会社古屋金属
- 申请人地址： 日本东京
- 专利权人： 株式会社古屋金属
- 当前专利权人： 株式会社古屋金属
- 当前专利权人地址： 日本东京
- 代理机构： 北京律盟知识产权代理有限责任公司
- 代理商 林彦
- 优先权： 2019-141696 20190731 JP 2019-213592 20191126 JP 2019-237867 20191227 JP 2019-237870 20191227 JP 2020-052166 20200324 JP 2020-105160 20200618 JP 2020-105165 20200618 JP 2020-105166 20200618 JP
- 国际申请： PCT/JP2020/025281 2020.06.26
- 国际公布： WO2021/019992 JA 2021.02.04
- 进入国家日期： 2022-01-10
- 主分类号： C23C14/34
- IPC分类号： C23C14/34 ; C22C21/00 ; C22C28/00 ; C22C14/00 ; C22C16/00 ; C22C27/00 ; C22C30/00 ; C22C1/04
摘要：
本发明的目的在于提供一种溅镀靶材，在溅镀靶材中作为杂质的氟元素的混入得到抑制，且使用该溅镀靶材形成薄膜时能够抑制因氟所导致的异常放电的发生，而形成配向性良好的薄膜。本发明的溅镀靶材的特征在于：包含铝且还包含稀土类元素及钛族元素中任一种或两种，且氟的含量为100ppm以下。
IPC分类:
