发明公开
- 专利标题: 制备二维纳米Cs3Cu2I5晶体材料的方法及其应用
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申请号: CN202111201029.2申请日: 2021-10-14
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公开(公告)号: CN113957527A公开(公告)日: 2022-01-21
- 发明人: 张骐 , 吕嘉楠 , 李馨 , 徐旻轩 , 郑鑫 , 史月琴 , 孔哲
- 申请人: 杭州电子科技大学
- 申请人地址: 浙江省杭州市钱塘区白杨街道2号大街1158号
- 专利权人: 杭州电子科技大学
- 当前专利权人: 杭州电子科技大学
- 当前专利权人地址: 浙江省杭州市钱塘区白杨街道2号大街1158号
- 主分类号: C30B29/12
- IPC分类号: C30B29/12 ; C30B25/00
摘要:
本发明提供了制备二维纳米Cs3Cu2I5晶体材料的方法及其应用,以铯源与铜源为混合源,通过气相沉积制备二维纳米Cs3Cu2I5晶体材料。本发明采用CsI、CuI经配比为前驱体,节能环保且无毒害性;合成大尺寸二维超薄Cs3Cu2I5纳米结构,为集成电路的大规模应用提供了材料基础;容易转移到其他衬底上进行后续器件加工制作。本发明的方法可以满足大批量二维纳米Cs3Cu2I5晶体材料的制备需求,产物表面平整、形貌均一、元素分布均匀。该制备方法原料丰富、价格低廉、制备方法简单、便于推广以及大规模生产,是一种极具应用潜力的,适用微纳光电子器件新材料的制备技术。
公开/授权文献
- CN113957527B 制备二维纳米Cs3Cu2I5晶体材料的方法及其应用 公开/授权日:2024-03-15
IPC分类: