发明授权
- 专利标题: 等离子体处理装置和等离子体处理方法
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申请号: CN202080020699.1申请日: 2020-03-13
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公开(公告)号: CN113557797B公开(公告)日: 2024-07-12
- 发明人: 加贺谷宗仁 , 川上聪 , 守屋刚 , 松土龙夫 , 山涌纯 , 小野田裕之
- 申请人: 东京毅力科创株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人: 东京毅力科创株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京尚诚知识产权代理有限公司
- 代理商 龙淳; 刘芃茜
- 国际申请: PCT/JP2020/011247 2020.03.13
- 国际公布: WO2020/195980 JA 2020.10.01
- 进入国家日期: 2021-09-13
- 主分类号: H05H1/46
- IPC分类号: H05H1/46 ; H01L21/3065 ; H01L21/31 ; C23C16/505
摘要:
本发明提供等离子体处理装置和等离子体处理方法。分隔板具有绝缘性,将处理容器的内部分隔为载置被处理体的反应室和生成等离子体的等离子体生成室。此外,分隔板在等离子体生成室侧的面设置第一电极,形成有用于将在等离子体生成室内生成的等离子体所包含的活性种供给到反应室的多个贯通孔。第二电极与第一电极相对地配置在等离子体生成室。在等离子体生成室生成等离子体时,电功率供给部对第一电极和第二电极中的任一者供给将多个频率的高频电功率进行相位控制并叠加而成的高频电功率。
公开/授权文献
- CN113557797A 等离子体处理装置和等离子体处理方法 公开/授权日:2021-10-26
IPC分类: