发明授权
- 专利标题: 一种磁场下合成及连续生长磷化物的方法
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申请号: CN202110760633.2申请日: 2021-07-06
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公开(公告)号: CN113502546B公开(公告)日: 2022-08-19
- 发明人: 王书杰 , 孙聂枫 , 徐森锋 , 史艳磊 , 邵会民 , 付莉杰 , 卜爱民 , 李晓岚 , 王阳
- 申请人: 中国电子科技集团公司第十三研究所
- 申请人地址: 河北省石家庄市新华区合作路113号
- 专利权人: 中国电子科技集团公司第十三研究所
- 当前专利权人: 中国电子科技集团公司第十三研究所
- 当前专利权人地址: 河北省石家庄市新华区合作路113号
- 代理机构: 石家庄众志华清知识产权事务所
- 代理商 聂旭中
- 主分类号: C30B30/04
- IPC分类号: C30B30/04 ; C30B15/02 ; C30B11/06 ; C30B29/10 ; C30B29/40 ; C30B29/44
摘要:
一种磁场下合成及连续生长磷化物的方法,属于半导体材料制备领域,特别是在静态磁场作用下,采用磷浸入金属熔体的方式进行半导体磷化物合成及生长的方法。方法包括A、加热坩埚,使坩埚内的金属和覆盖物氧化硼融化;B、将红磷浸入坩埚;C、在坩埚外围施加静磁场,调节温度梯度,开始合成;D、合成完毕后,进行晶体生长。采用本发明提供的方法,红磷以固体的形式沉入熔体,气化后从坩埚底部上浮,克服了采用磷泡产生的倒吸等问题;横向静磁场抑制气泡上浮速率,同时抑制温度梯度方向的熔体对流,使合成过程更加平稳、迅速。
公开/授权文献
- CN113502546A 一种磁场下合成及连续生长磷化物的方法 公开/授权日:2021-10-15
IPC分类: