Invention Grant
- Patent Title: 结构体检查方法及制造方法、结构体检查装置及制造装置
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Application No.: CN201980078356.8Application Date: 2019-12-19
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Publication No.: CN113167567BPublication Date: 2023-03-24
- Inventor: 杉原洋树 , 谷野贵广
- Applicant: 东丽株式会社
- Applicant Address: 日本东京都
- Assignee: 东丽株式会社
- Current Assignee: 东丽株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京都
- Agency: 北京市中咨律师事务所
- Agent 张轶楠; 段承恩
- Priority: 2019-010819 20190125 JP
- International Application: PCT/JP2019/049802 2019.12.19
- International Announcement: WO2020/153063 JA 2020.07.30
- Date entered country: 2021-05-27
- Main IPC: G01B11/00
- IPC: G01B11/00 ; G01B11/24 ; G01B15/00 ; G01N23/044 ; G01N23/18

Abstract:
能够高精度地检测结构体是合格品还是不合格品。结构体检查装置具备:以两个以上的路径辐射X射线的X射线辐射单元(1a、1b)、对透射了结构体(2)的X射线进行检测的一个以上的X射线检测单元(3)、在多个位置测定从所述X射线辐射单元到所述结构体的距离的多个位置距离测定单元(4)、以及图像处理单元(5),所述图像处理单元包括:对所述X射线检测单元所取得的两个以上的图像检测缺陷候选的缺陷候选检测单元、高度测定单元、对记录了通过所述高度测定单元得到的高度位置信息的图像和通过所述缺陷候选检测单元得到的缺陷候选图像进行逻辑积运算的图像运算单元、根据所述距离和所述结构体的厚度来设定检查范围的检查范围设定单元、以及在所述检查范围中含有缺陷候选的情况下判断为缺陷的缺陷判断单元。
Public/Granted literature
- CN113167567A 结构体检查方法及制造方法、结构体检查装置及制造装置 Public/Granted day:2021-07-23
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