发明公开
- 专利标题: 一种测试氧化膜硅基产品硼元素含量的方法
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申请号: CN202011471290.X申请日: 2020-12-15
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公开(公告)号: CN112505135A公开(公告)日: 2021-03-16
- 发明人: 齐禹纯 , 由佰玲 , 武卫 , 刘建伟 , 刘园 , 孙晨光 , 王彦君 , 常雪岩 , 裴坤羽 , 祝斌 , 刘姣龙 , 张宏杰 , 袁祥龙 , 谢艳 , 杨春雪 , 刘秒 , 吕莹 , 徐荣清
- 申请人: 天津中环领先材料技术有限公司 , 中环领先半导体材料有限公司
- 申请人地址: 天津市滨海新区华苑产业区(环外)海泰东路12号;
- 专利权人: 天津中环领先材料技术有限公司,中环领先半导体材料有限公司
- 当前专利权人: 天津中环领先材料技术有限公司,中环领先半导体材料有限公司
- 当前专利权人地址: 天津市滨海新区华苑产业区(环外)海泰东路12号;
- 代理机构: 天津诺德知识产权代理事务所
- 代理商 栾志超
- 主分类号: G01N27/64
- IPC分类号: G01N27/64
摘要:
本发明提供一种测试氧化膜硅基产品硼元素含量的方法,包括使用二次质谱仪检测一级标样的离子强度,计算出RSF值,利用RSF值计算出样片一、样片二和样片三的硼元素浓度,用已知样片一、样片二和样片三的硼元素浓度除以计算出的样片一、样片二和样片三的硼元素浓度,得出3个修正系数,在计算出修正系数的平均修正系数,检测待测样片的硼离子强度,得出临时硼元素浓度,用临时硼元素浓度乘以平均修正系数得出最终待测样片的硼元素浓度。本发明的有益效果是有效的解决硼元素含量过多导致产品失效,现有技术测量元素浓度存在不准确性,不能保证RSF值是否正确,检测速度慢的问题。