本发明涉及一种大比表面积纳米ITO粉的制备方法，包括以下步骤：将金属铟溶解于稀酸溶液，加入四氯化锡的饱和溶液；加入沉淀剂，控制反应温度为60～80℃，反应液pH值为6.5～7.5；加入转化剂，控制料液pH值为9.0～10.0，升温至近沸，保温20～40min；加入中和剂，控制料液pH为6.5～7.5；清洗、过滤、干燥；分解、冷却，粉碎、筛分，即得。本发明的制备方法原料来源广，工艺简单，反应条件温和，安全无污染，制备所得纳米ITO粉的纯度超过99.995％，粒径小于50nm，比表面积超过60㎡/g，最高达到120㎡/g，靶材相对密度超过99.7％，能够满足更高性能薄膜镀膜的要求。