- 专利标题: 基于微增减材同步复合制造金刚石微光栅的方法及装置
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申请号: CN202010743211.X申请日: 2020-07-29
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公开(公告)号: CN111850507B公开(公告)日: 2022-06-17
- 发明人: 崔雨潇 , 戚厚军
- 申请人: 天津职业技术师范大学(中国职业培训指导教师进修中心)
- 申请人地址: 天津市津南区大沽南路1310号
- 专利权人: 天津职业技术师范大学(中国职业培训指导教师进修中心)
- 当前专利权人: 天津职业技术师范大学(中国职业培训指导教师进修中心)
- 当前专利权人地址: 天津市津南区大沽南路1310号
- 代理机构: 天津市北洋有限责任专利代理事务所
- 代理商 杜文茹
- 主分类号: C23C16/27
- IPC分类号: C23C16/27 ; C23C16/56 ; C23C16/02 ; B23K26/362
摘要:
基于微增减材同步复合制造金刚石微光栅的方法及装置,方法是对金刚石薄膜试样表面进行预处理去除表面杂质;在金刚石薄膜试样表面进行低温热丝CVD金刚石沉积,同时在CVD金刚石薄膜表面进行图形化微加工,得到金刚石微光栅。装置有用于进行低温热丝CVD金刚石沉积的低温热丝CVD金刚石沉积系统,用于进行图形化微加工的激光刻蚀系统,低温热丝CVD金刚石沉积系统有上端形成有光学窗口的真空反应腔室,真空反应腔室内设置有工作台,真空反应腔室外部设置有供气系统,工作台上设置有用于激发反应气体和加热金刚石薄膜试样的加热丝加系统。本发明实现了微增材加工和微减材加工的时空同步复合,并实现金刚石在非刻蚀区域的持续原位生长。
公开/授权文献
- CN111850507A 基于微增减材同步复合制造金刚石微光栅的方法及装置 公开/授权日:2020-10-30
IPC分类: