- 专利标题： 掩膜对准标记组合、掩膜对准系统、光刻装置及其方法
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申请号： CN201910239716.X申请日： 2019-03-27
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公开(公告)号： CN111752112A公开(公告)日： 2020-10-09
- 发明人: 陈小娟 , 忻斌杰 , 李术新
- 申请人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
- 申请人地址： 上海市浦东新区张东路1525号
- 专利权人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
- 当前专利权人： 上海微电子装备(集团)股份有限公司
- 当前专利权人地址： 上海市浦东新区张东路1525号
- 代理机构： 上海思捷知识产权代理有限公司
- 代理商 王宏婧
- 主分类号： G03F9/00
- IPC分类号： G03F9/00 ; G03F7/20
摘要：
本发明提供了一种掩膜对准标记组合、掩膜对准系统、光刻装置及其方法，通过在掩膜板及工件台基准板上分别设置包括多组光栅的第一对准标记分支和第二对准标记分支，使得在对准扫描过程中，辐射探测器可以测得多个空间像的辐射信息，进而结合第一位置探测器和第二位置探测器探测到的掩膜板及所述工件台基准板的位置信息获得多个粗掩模对准位置，根据多个粗掩模对准位置计算得到精掩模对准位置，从而提高了掩模对准测量精度。
公开/授权文献
- CN111752112B 掩膜对准标记组合、掩膜对准系统、光刻装置及其方法 公开/授权日：2021-09-10
