发明公开
- 专利标题: 研磨微粒及其制造方法、研磨剂
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申请号: CN202010240378.4申请日: 2020-03-31
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公开(公告)号: CN111500258A公开(公告)日: 2020-08-07
- 发明人: 杨鹏 , 高峰 , 杨剑
- 申请人: 长江存储科技有限责任公司
- 申请人地址: 湖北省武汉市武汉东湖新技术开发区未来三路88号
- 专利权人: 长江存储科技有限责任公司
- 当前专利权人: 长江存储科技有限责任公司
- 当前专利权人地址: 湖北省武汉市武汉东湖新技术开发区未来三路88号
- 代理机构: 北京成创同维知识产权代理有限公司
- 代理商 岳丹丹
- 主分类号: C09K3/14
- IPC分类号: C09K3/14
摘要:
公开了一种研磨微粒及其制造方法,所述研磨微粒包括:核心,所述核心的形状为球状结构弹性芯体,在压力作用下会发生弹性形变;包裹所述核心的第一核壳,所述第一核壳为研磨层,用于对目标材料进行研磨,其中,所述第一核壳具有介孔结构。本发明提供的研磨微粒,是由多孔碳核心和氧化铈第一核壳构成的微球结构,且多孔碳核心在压力下可以发生弹性形变,因此可以降低研磨微粒不规则表面而造成的划伤半导体表面的风险,另外,由于第一核壳为介孔结构,可以提高研磨微粒的韧性,降低研磨微粒在使用中的破损率。