处理腔室及包括其的处理器
Abstract:
本发明涉及处理腔室及包括其的处理器。根据本发明的一实施例的处理腔室形成有气体能够流动的内部空间,包括:气体流动装置,从处理腔室的内部空间排出气体,并且将气体供应到内部空间;通路部,通路部包括:通路主体;流出口,形成于通路主体,从内部空间排出气体;以及流入口,形成于通路主体,将气体供应到内部空间;以及气体流动路径调整单元,对通路部的气体流动路径进行控制,气体流动路径调整单元具有:第一运作模式,打开流入口和流出口之间的第一流动路径,关闭处理腔室的外侧和内部空间之间的第二流动路径;第二运作模式,打开第二流动路径,气体流动路径调整单元选择性地以第一运作模式和第二运作模式中的任一运作模式驱动。
Public/Granted literature
Patent Agency Ranking
0/0