一种底层优良的低温高磁感取向硅钢制造方法
摘要:
本发明提供了一种底层优良的低温高磁感取向硅钢制造技术,属取向硅钢制造技术领域,目的是获得优异的底层附着性、良好的表面光洁度以及大张力底层。主要技术特征是:(1)控制冷轧后带钢表面粗糙度Ra小于0.25;(2)控制脱碳退火后带钢表层氧化膜生成量(单面)为2.5~3.5μm,且氧化膜中Si和Fe元素的原子重量比满足Fe/(Si+Fe)=0.08~0.25;(3)向高温退火MgO隔离剂中加入一定量的至少1种一次粒径<200nm纳米形核剂和一定量的至少1种熔点低于950℃低熔点化合物,包含1种以上熔点低于800℃化合物。
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