发明授权
- 专利标题: 鳍式场效晶体管的制造方法
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申请号: CN201711292065.8申请日: 2017-12-08
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公开(公告)号: CN109326561B公开(公告)日: 2021-05-14
- 发明人: 洪同萱 , 沈冠傑 , 许秉诚
- 申请人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 申请人地址: 中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路八号
- 专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾新竹市新竹科学工业园区力行六路八号
- 代理机构: 北京律诚同业知识产权代理有限公司
- 代理商 徐金国
- 优先权: 15/664,032 20170731 US
- 主分类号: H01L21/8234
- IPC分类号: H01L21/8234 ; H01L29/78 ; H01L21/336
摘要:
一种鳍式场效晶体管的制造方法,包含形成延伸进入半导体基板的多个隔离区,凹陷这些隔离区,使得这些隔离区之间的多个半导体条的部分突出高于这些隔离区以形成多个半导体鳍片。此方法还包含凹陷这些半导体鳍片以形成多个凹部,自这些凹部磊晶成长第一半导体材料,蚀刻第一半导体材料,以及自已回蚀刻的第一半导体材料磊晶成长第二半导体材料。
公开/授权文献
- CN109326561A 鳍式场效晶体管的制造方法 公开/授权日:2019-02-12
IPC分类: