Invention Grant
- Patent Title: 图案形成方法、加工基板的制造方法、光学组件的制造方法、电路基板的制造方法、电子组件的制造方法和压印模具的制造方法
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Application No.: CN201780022158.0Application Date: 2017-03-29
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Publication No.: CN109075033BPublication Date: 2024-04-02
- Inventor: 伊藤俊树 , 大谷智教 , 千叶启子 , 刘卫军 , 布赖恩·蒂莫西·斯塔霍维亚克
- Applicant: 佳能株式会社
- Applicant Address: 日本东京都大田区下丸子3丁目30番2号
- Assignee: 佳能株式会社
- Current Assignee: 佳能株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京都大田区下丸子3丁目30番2号
- Agency: 北京魏启学律师事务所
- Agent 魏启学
- International Application: PCT/JP2017/012779 2017.03.29
- International Announcement: WO2017/170625 JA 2017.10.05
- Date entered country: 2018-09-30
- Main IPC: H01L21/027
- IPC: H01L21/027 ; B29C59/02
Abstract:
将包含聚合性化合物组分(a1)和溶剂组分(d1)的固化性组合物(A1)的层层叠在基板的表面上。将至少包含聚合性化合物组分(a2)的固化性组合物(A2)的液滴离散地滴落在前述固化性组合物的层上。将所述固化性组合物(A1)和所述固化性组合物(A2)的混合层夹持在所述基板与模具之间。通过用光照射而使所述混合层固化。使所述模具与固化后的所述混合层脱离，并且在所述基板上形成图案。
Public/Granted literature
- CN109075033A 图案形成方法、加工基板的制造方法、光学组件的制造方法、电路基板的制造方法、电子组件的制造方法和压印模具的制造方法 Public/Granted day:2018-12-21
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IPC分类:
