- 专利标题: 一种钙钛矿薄膜后处理设备及使用方法和应用
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申请号: CN201710406252.8申请日: 2017-06-02
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公开(公告)号: CN108987577B公开(公告)日: 2024-02-02
- 发明人: 请求不公布姓名 , 请求不公布姓名
- 申请人: 杭州纤纳光电科技有限公司
- 申请人地址: 浙江省杭州市余杭区五常街道文一西路998号海创园18号楼111室
- 专利权人: 杭州纤纳光电科技有限公司
- 当前专利权人: 杭州纤纳光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 浙江省杭州市余杭区五常街道文一西路998号海创园18号楼111室
- 代理机构: 杭州奥创知识产权代理有限公司
- 代理商 杨文华
- 主分类号: H10K71/00
- IPC分类号: H10K71/00 ; H10K71/40 ; H10K85/50 ; H10K30/50 ; H10K10/40
摘要:
本发明涉及一种钙钛矿薄膜后处理设备,包括溶液喷涂清洗部分和/或溶剂沉积部分,溶液喷涂清洗部分包括第一传送装置、第一密闭腔室以及溶液喷涂装置、高压气体喷嘴装置和高温干燥装置,高压气体喷嘴装置设置在溶液喷涂装置和高温干燥装置之间,第一传送装置横跨第一密闭腔室。溶剂沉积部分包括传动轴装置、第二密闭腔室以及加热装置和溶剂蒸发装置,溶剂蒸发装置靠近溶液喷涂清洗部分,传动轴装置的转动轴从上下设置的加热装置和溶剂蒸发装置之间通过。本发明还涉及一种钙钛矿薄膜后处理设备的使用方法和应用。本发明对已制备了钙钛矿薄膜基片进行后续清洗和退火处理,对钙钛矿薄膜的缺陷进行修补处理,进一步提高钙钛矿薄膜的质量。
公开/授权文献
- CN108987577A 一种钙钛矿薄膜后处理设备及使用方法和应用 公开/授权日:2018-12-11