发明公开
- 专利标题: 高密封良率的多层密封膜
- 专利标题(英): MULTI-LAYER SEALING FILM FOR HIGH SEAL YIELD
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申请号: CN201711148122.5申请日: 2017-11-17
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公开(公告)号: CN108117038A公开(公告)日: 2018-06-05
- 发明人: 杨志坚 , 石明伦 , 李仁铎 , 刘人豪
- 申请人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 申请人地址: 中国台湾新竹
- 专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾新竹
- 代理机构: 北京德恒律治知识产权代理有限公司
- 代理商 章社杲; 李伟
- 优先权: 62/427,185 2016.11.29 US
- 主分类号: B81B7/02
- IPC分类号: B81B7/02 ; B81C1/00
摘要:
本发明实施例提供了高密封良率的多层密封膜。在一些实施例中,衬底包括从衬底的上侧穿过衬底延伸至衬底的下侧的通气口。衬底的上侧具有第一压力,并且衬底的下侧具有与第一压力不同的第二压力。多层密封膜覆盖并且密封通气口以防止第一压力通过通气口与第二压力平衡。此外,多层密封膜包括金属层对和夹在金属层之间的阻挡层。还提供了包括多层密封膜的微电子机械系统(MEMS)封装件和用于制造多层密封膜的方法。
公开/授权文献
- CN108117038B 高密封良率的多层密封膜 公开/授权日:2020-11-20