发明授权
- 专利标题: 用于太阳能电池制造的蚀刻工艺
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申请号: CN201580046434.8申请日: 2015-09-23
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公开(公告)号: CN107078183B公开(公告)日: 2019-03-08
- 发明人: 斯科特·哈林顿 , 文卡塔苏布拉马尼·巴鲁 , 斯塔凡·韦斯特贝格 , 彼得·约翰·卡曾斯
- 申请人: 太阳能公司
- 申请人地址: 美国加利福尼亚州
- 专利权人: 太阳能公司
- 当前专利权人: 迈可晟太阳能有限公司
- 当前专利权人地址: 美国加利福尼亚州
- 代理机构: 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- 代理商 顾丽波; 李荣胜
- 优先权: 14/498,850 2014.09.26 US
- 国际申请: PCT/US2015/051786 2015.09.23
- 国际公布: WO2016/049231 EN 2016.03.31
- 进入国家日期: 2017-02-28
- 主分类号: H01L31/18
- IPC分类号: H01L31/18
摘要:
本发明提供了一种制造太阳能电池的方法,所述方法可包括在硅基板上方形成第一掺杂剂区,以及在所述第一掺杂剂区上方形成氧化物区。在一个实施例中,所述氧化物区可保护所述第一掺杂剂区免于经历第一蚀刻工艺。在一个实施例中,可在所述硅基板上方形成第二掺杂剂区,其中可形成掩模以保护所述第二掺杂剂区的第一部分免于经历所述第一蚀刻工艺。在一个实施例中,可执行所述第一蚀刻工艺以暴露所述硅基板和/或硅区的多个部分。可执行第二蚀刻工艺来形成沟槽区,以将所述太阳能电池的第一掺杂区和第二掺杂区隔离开。可执行第三蚀刻工艺以从所述太阳能电池移除污染物,以及移除所述氧化物区的任何剩余部分。
公开/授权文献
- CN107078183A 用于太阳能电池制造的蚀刻工艺 公开/授权日:2017-08-18
IPC分类: