发明公开
- 专利标题: 包括高电子迁移率晶体管的半导体器件结构及其形成方法
- 专利标题(英): Semiconductor device including high-electron-mobility transistor (hemt) and method for manufacturing the same
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申请号: CN201611113039.X申请日: 2016-12-06
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公开(公告)号: CN107046039A公开(公告)日: 2017-08-15
- 发明人: 金俊德 , 蔡冠智
- 申请人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 申请人地址: 中国台湾新竹
- 专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾新竹
- 代理机构: 北京德恒律治知识产权代理有限公司
- 代理商 章社杲; 李伟
- 优先权: 15/016,475 20160205 US
- 主分类号: H01L27/12
- IPC分类号: H01L27/12 ; H01L29/778 ; H01L21/84
摘要:
本发明实施例提供了一种半导体器件,包括衬底和高电子迁移率晶体管(HEMT)。形成有凹槽的衬底。HEMT的至少部分设置在凹槽中。也公开了一种用于制造半导体器件的方法。也公开了一种使用半导体器件的射频(RF)前端模块。本发明实施例涉及包括高电子迁移率晶体管的半导体器件结构及其形成方法。
IPC分类: