微电路基板用经表面处理的铜箔及其制造方法
Abstract:
本发明涉及一种微电路基板用经表面处理的铜箔及其制造方法。具体而言,根据本发明的微电路基板用经表面处理的铜箔的制造方法包括如下步骤:第一步骤,在包含有Co、Ni、Mo、W、Cu、Fe中的一种以上的金属离子的镀液中将铜箔布置成阴极,并电解处理而形成金属合金层;作为粗糙化处理层形成步骤的第二步骤,对形成的所述金属合金层进行粗糙化处理而形成突起物;第三步骤,在所述粗糙化处理层上形成Zn被覆膜层;第四步骤,在所述被覆膜层上形成铬酸盐层;第五步骤,在所述电解铬酸盐层上形成硅烷偶联剂处理层。本发明具有如下技术效果:通过形成金属合金层而对铜箔进行表面处理,从而可以提高铜箔的剥离强度。
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