发明公开
- 专利标题: 用于半导体器件的双应变包覆层
- 专利标题(英): Dual strained cladding layers for semiconductor devices
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申请号: CN201380080950.3申请日: 2013-12-16
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公开(公告)号: CN105723514A公开(公告)日: 2016-06-29
- 发明人: S·M·塞亚 , R·科特利尔 , H·W·肯内尔 , K·J·库恩 , T·加尼
- 申请人: 英特尔公司
- 申请人地址: 美国加利福尼亚
- 专利权人: 英特尔公司
- 当前专利权人: 英特尔公司
- 当前专利权人地址: 美国加利福尼亚
- 代理机构: 永新专利商标代理有限公司
- 代理商 陈松涛; 王英
- 国际申请: PCT/US2013/075437 2013.12.16
- 国际公布: WO2015/094164 EN 2015.06.25
- 进入国家日期: 2016-05-16
- 主分类号: H01L29/78
- IPC分类号: H01L29/78 ; H01L21/336
摘要:
本发明描述了与用于半导体器件的双应变包覆层有关的技术和方法,以及并入了这样的半导体器件的系统。
公开/授权文献
- CN105723514B 用于半导体器件的双应变包覆层 公开/授权日:2019-12-10
IPC分类: