发明授权
- 专利标题: 基于脑波信号进行分析的方法和设备
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申请号: CN201480008515.4申请日: 2014-02-13
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公开(公告)号: CN105072988B公开(公告)日: 2017-09-15
- 发明人: 张祜宗 , 金应徽 , 朴祥贤 , 洪承均 , 金光武
- 申请人: 灿美工程股份有限公司
- 申请人地址: 韩国京畿道龙仁市处仁区南四面兄弟路5
- 专利权人: 灿美工程股份有限公司
- 当前专利权人: 博睿优株式会社
- 当前专利权人地址: 韩国京畿道龙仁市处仁区南四面兄弟路5
- 代理机构: 北京同立钧成知识产权代理有限公司
- 代理商 陶敏; 臧建明
- 优先权: 10-2013-0015676 20130214 KR
- 国际申请: PCT/KR2014/001200 2014.02.13
- 国际公布: WO2014/126405 KO 2014.08.21
- 进入国家日期: 2015-08-12
- 主分类号: A61B5/0476
- IPC分类号: A61B5/0476 ; A61B5/048 ; A61B5/0482
摘要:
本发明提供一种使用倒谱技术测量麻醉深度的方法和设备。所述方法包括下述步骤:第一特征向量提取部分接收第一脑电图信号作为输入信号,通过梅尔频率倒谱系数(melfrequency cepstral coefficient;MFCC)计算,且提取第一特征向量;第二特征向量提取部分接收来自麻醉状态的第二脑电图信号和来自非麻醉状态的第三脑电图信号作为输入信号,通过梅尔频率倒谱系数(MFCC)计算,且提取第二特征向量和第三特征向量;以及量化部分将具有第二特征向量和第三特征向量作为两个轴的向量平坦表面的两个轴之间的区域分成多个区段,且量化多个区段内的第一特征向量的位置以输出麻醉深度指数。本发明可在适当时间提供麻醉深度,即使在麻醉状态的突然变化期间也是如此。
公开/授权文献
- CN105072988A 使用倒谱技术测量麻醉深度的方法和设备 公开/授权日:2015-11-18