用于去除和防止金属线表面形成氧化物的组合物
摘要:
本发明提供一种在制造半导体电路、有机发光二极管、LED或液晶显示器的过程中,去除形成在铜膜表面的氧化物,且不会引起更低层金属膜的腐蚀的方法。该组合物包括腐蚀性胺,可去除金属氧化物,这取决于范围为0.01‑10%的添加剂,而不论超纯水的含量为多少。当其同样含有水和0.01‑20%的添加剂时,除了腐蚀性胺以外,其它极性溶剂可有效去除金属表面的氧化物。
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