本发明提供一种ITO薄膜的电阻调节方法，其至少包括以下步骤：步骤S1，向真空腔室内输送工艺气体，并开启激励电源，以激发工艺气体形成的等离子体轰击ITO靶材，并在被加工工件的表面上沉积ITO薄膜；步骤S2，停止向真空腔室内输送工艺气体，且关闭激励电源，并使被加工工件在真空腔室内保持预设时长，通过改变预设时长来调节ITO薄膜的电阻。本发明提供的ITO薄膜的电阻调节方法，其不仅可以减小ITO薄膜的电阻和提高ITO薄膜的电阻均匀性，从而可以提高ITO薄膜的工艺质量；而且可以降低投入成本，并使得调节过程简单，从而可以提高工作效率，进而可以提高经济效益。