- 专利标题: 一种用于轴瓦上的细Sn相AlSn20Cu涂层的制备方法
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申请号: CN201410766300.0申请日: 2014-12-12
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公开(公告)号: CN104532189B公开(公告)日: 2017-06-20
- 发明人: 刘智勇 , 杨润田 , 洪春福 , 王志锋 , 任丽宏 , 唐纬虹 , 刘若涛
- 申请人: 中国兵器科学研究院宁波分院
- 申请人地址: 浙江省宁波市高新区凌云路199号
- 专利权人: 中国兵器科学研究院宁波分院
- 当前专利权人: 中国兵器科学研究院宁波分院
- 当前专利权人地址: 浙江省宁波市高新区凌云路199号
- 代理机构: 宁波诚源专利事务所有限公司
- 代理商 袁忠卫
- 主分类号: C23C14/14
- IPC分类号: C23C14/14 ; C23C14/32 ; C23C14/35 ; B32B15/01
摘要:
本发明涉及一种用于轴瓦上的细Sn相AlSn20Cu涂层的制备方法,与现有技术相比,AlSn20Cu层与AlSn20Cu+Al混合层交替分布,有效地抑制了AlSn20Cu涂层中Sn相组织的长大,且涂层成分的多元化、结构的多层化有效改善了涂层的应力分布,所得涂层中Sn相分布更加细密均匀、显微硬度偏大,提高了Sn相在涂层中的结合强度,大幅度增强了抗疲劳性能;突破了目前轴瓦减摩涂层制备时温度不能高于170℃、涂覆时轴瓦夹具需要水冷的限制,扩大了涂覆工艺参数的调整范围,简化了涂覆设备结构;本发明涂层的制备方法所用靶材廉价易得,工艺稳定、运行成本低,对获得更高品质轴瓦减摩涂层具有较好的适用性。
公开/授权文献
- CN104532189A 一种用于轴瓦上的细Sn相AlSn20Cu涂层及其制备方法 公开/授权日:2015-04-22
IPC分类: