Invention Publication
CN104424964A 图案形成方法和磁记录介质的制造方法
无效 - 撤回
- Patent Title: 图案形成方法和磁记录介质的制造方法
- Patent Title (English): PATTERN FORMATION METHOD AND MAGNETIC RECORDING MEDIUM MANUFACTURING METHOD
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Application No.: CN201410033231.2Application Date: 2014-01-24
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Publication No.: CN104424964APublication Date: 2015-03-18
- Inventor: 木村香里 , 泷泽和孝 , 藤本明
- Applicant: 株式会社东芝
- Applicant Address: 日本东京都
- Assignee: 株式会社东芝
- Current Assignee: 株式会社东芝
- Current Assignee Address: 日本东京都
- Agency: 北京市中咨律师事务所
- Agent 段承恩; 杨光军
- Priority: 2013-187498 2013.09.10 JP
- Main IPC: G11B5/84
- IPC: G11B5/84 ; G03F7/00

Abstract:
在磁记录介质形成面内均匀性良好的周期性图案。根据实施方式,在磁记录层上涂布包含微粒子的微粒子涂布液,形成单层的微粒子层,所述微粒子被保护层被覆,且至少在表面具有选自Al、Si、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Zn、Y、Zr、Sn、Mo、Ta、W及其氧化物中的材料,所述保护层包含第1添加剂和第2添加剂的混合物,所述第1添加剂具有用于提高对磁记录层的润湿性的直链结构以及羧基等,所述第2添加剂具有羧基等以及聚合性官能团,应用热能或者光能,使聚合性官能团反应而使保护层固化,并且固着于磁记录层上,形成周期性图案。
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IPC分类: