发明公开
- 专利标题: 用于物理气相沉积腔室靶材的冷却环
- 专利标题(英): Cooling ring for physical vapor deposition chamber target
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申请号: CN201280042073.6申请日: 2012-08-28
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公开(公告)号: CN103764869A公开(公告)日: 2014-04-30
- 发明人: 布赖恩·韦斯特 , 吉留刚一 , 拉尔夫·霍夫曼
- 申请人: 应用材料公司
- 申请人地址: 美国加利福尼亚州
- 专利权人: 应用材料公司
- 当前专利权人: 应用材料公司
- 当前专利权人地址: 美国加利福尼亚州
- 代理机构: 北京律诚同业知识产权代理有限公司
- 代理商 徐金国; 赵静
- 优先权: 61/530,922 2011.09.02 US; 13/584,972 2012.08.14 US
- 国际申请: PCT/US2012/052680 2012.08.28
- 国际公布: WO2013/033102 EN 2013.03.07
- 进入国家日期: 2014-02-27
- 主分类号: C23C14/34
- IPC分类号: C23C14/34 ; C23C14/35
摘要:
提供用于物理气相沉积的设备和方法。在一些实施方式中,在物理气相沉积腔室中冷却靶材的冷却环可包括环形主体,环形主体具有中心开口;入口端口,该入口端口耦接至主体;出口端口,该出口端口耦接至主体,冷却剂通道,该冷却剂通道设置在主体中并且具有第一端部和第二端部,该第一端部耦接至入口端口,该第二端部耦接至出口端口;以及帽件,该帽件耦接至主体并且实质上跨越中心开口,其中该帽件包括中心孔。
公开/授权文献
- CN103764869B 用于物理气相沉积腔室靶材的冷却环 公开/授权日:2016-04-27
IPC分类: