- 专利标题: 基于溶液生长法的SiC单晶体的制造装置及其坩埚
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申请号: CN201280027616.7申请日: 2012-06-11
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公开(公告)号: CN103597129B公开(公告)日: 2016-03-02
- 发明人: 龟井一人 , 楠一彦 , 矢代将齐 , 冈田信宏 , 大黑宽典 , 加渡干尚 , 坂元秀光
- 申请人: 新日铁住金株式会社 , 丰田自动车株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 新日铁住金株式会社,丰田自动车株式会社
- 当前专利权人: 丰田自动车株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 北京林达刘知识产权代理事务所
- 代理商 刘新宇; 张会华
- 优先权: 2011-136600 2011.06.20 JP
- 国际申请: PCT/JP2012/064938 2012.06.11
- 国际公布: WO2012/176647 JA 2012.12.27
- 进入国家日期: 2013-12-05
- 主分类号: C30B29/36
- IPC分类号: C30B29/36 ; C30B19/06
摘要:
一种SiC单晶体的制造装置既抑制SiC溶液的周边区域的温度不均匀,同时又冷却SiC种结晶的附近区域。该SiC单晶体的制造装置包括籽晶轴(30)以及坩埚(14)。籽晶轴(30)具有供SiC种结晶(36)安装的下端面(34)。坩埚(14)用于容纳SiC溶液(16)。坩埚(14)包括主体(140)、中盖(42)和上盖(44)。主体(140)包括第1筒部(38)和配置于第1筒部(38)的下端部的底部(40)。中盖(42)配置于主体(140)内的SiC溶液(16)的液面的上方、且是第1筒部(38)内。中盖(42)具有使籽晶轴(30)穿过的第1通孔(48)。上盖(44)配置于中盖(42)的上方。上盖(44)具有使籽晶轴(30)穿过的第2通孔(52)。
公开/授权文献
- CN103597129A 基于溶液生长法的SiC单晶体的制造装置、使用该制造装置的SiC单晶体的制造方法以及用于该制造装置的坩埚 公开/授权日:2014-02-19
IPC分类: