发明公开
- 专利标题: 一种掩膜板、基板及显示装置
- 专利标题(英): Mask plate, substrate and display device
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申请号: CN201310581233.0申请日: 2013-11-18
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公开(公告)号: CN103592815A公开(公告)日: 2014-02-19
- 发明人: 黄正峰
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,合肥鑫晟光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,合肥鑫晟光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京中博世达专利商标代理有限公司
- 代理商 申健
- 主分类号: G03F1/00
- IPC分类号: G03F1/00 ; G03F1/54 ; G03F1/60 ; G03F1/76 ; G03F7/20 ; G02F1/1333
摘要:
本发明提供了一种掩膜板、基板及显示装置,涉及显示技术领域,解决了现有的掩膜板形成的彩色膜层其上表面不平整,具有角段差的问题。本发明实施例提供了一种掩膜板,包括全透光区、部分透光区和不透光区,所述不透光区将掩膜板分割成多个阵列排布的曝光单元,每一所述曝光单元包括全透光区和部分透光区,所述部分透光区设置在所述透光区和不透光区之间,其中所述掩膜板的曝光单元对应形成薄膜的图案单元,且所述曝光单元的全透光区对应形成的薄膜的高度大于所述部分透光区对应形成的薄膜的高度。
公开/授权文献
- CN103592815B 一种掩膜板、基板及显示装置 公开/授权日:2016-05-11