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半导体设备的制造方法
摘要:
一种用于制造具有冷却机构(61)的半导体设备(10)的制造方法,包含:通过将激光(L)聚光于由硅所形成的板状的加工对象物(1),从而在加工对象物(1)的内部以沿着改质区域形成预定线(5)延伸的方式形成改质区域(7)的改质区域形成工序;在改质区域形成工序之后,通过对加工对象物(1)实施各向异性蚀刻处理,从而使蚀刻沿着改质区域(7)选择性地进展,将用于流通冷却介质(61)的流路作为冷却机构(61)形成于加工对象物(1)的内部的蚀刻处理工序;及在加工对象物(1)的一个主面侧形成功能元件的功能元件形成工序。
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