发明授权
- 专利标题： 一种蚀刻剂及其制备和应用
- 专利标题（英）： Etching agent as well as preparation method and application thereof
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申请号： CN201210540299.0申请日： 2012-12-13
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公开(公告)号： CN103013523B公开(公告)日： 2014-05-14
- 发明人: 萨莉·安·亨利 , 黄金涛 , 马嘉 , 吴仪 , 苏宇佳
- 申请人： 北京七星华创电子股份有限公司
- 申请人地址： 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M2楼2层
- 专利权人： 北京七星华创电子股份有限公司
- 当前专利权人： 北京七星华创电子股份有限公司
- 当前专利权人地址： 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M2楼2层
- 代理机构： 上海天辰知识产权代理事务所
- 代理商 吴世华; 林彦之
- 主分类号： C09K13/04
- IPC分类号： C09K13/04 ; H01L21/02
摘要：
本发明提供一种蚀刻剂，其是由硫酸和过硫酸铵组成，过滤酸铵的质量浓度为1-25%。硫酸为98%质量浓度的硫酸。本发明还提出制备该蚀刻剂的方法，其是将过硫酸铵加入100-200℃的硫酸中。本发明用过硫酸铵替代氧化剂过氧化氢。过硫酸铵是一种粉末，使操作更简单；本发明提出的蚀刻剂处理晶片或光掩模，因为硫酸是与有机物反应的副产物，而不是水，所以多次清洗后蚀刻剂也不会被稀释，节约了生产成本。
公开/授权文献
- CN103013523A 一种蚀刻剂及其制备和应用 公开/授权日：2013-04-03
